废ITO靶材回收的核心挑战在于：

成分复杂：除In₂O₃、SnO₂外，含粘结剂、金属背板（铜/钼）等。

高纯度要求：再生铟纯度需达99.99%以上，杂质含量需严格控制在ppm级，否则影响新靶材性能。

铟锡分离：分离铟锡是实现价值化的关键。

闭环工艺：价值再造的精益之路

ITO靶材的基本介绍：

主要成分：氧化铟（In2O3）和氧化锡（SnO2）

应用领域：液晶显示、OLED、太阳能电池、触摸屏等

靶材类型：新靶材、废靶材（使用后剩余靶材）

从电子废物和废ITO靶材等废物来源中回收氧化铟是铟回收的一个重要方面。从这些废源中回收氧化铟可以通过各种工艺实现，包括化学处理、溶剂萃取和离子交换，回收的氧化铟可用于生产各种半导体器件，从而减少对新铟资源的需求，并将铟开采对环境的影响降至。

目前，市场上已有不少专业的ITO靶材回收企业，他们通过先进的回收技术和设备，将废旧ITO靶材中的铟、锡等元素进行有效分离和提纯，再加工成新的靶材产品，实现了资源的循环利用。